etching test - traduzione in russo
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Traduzione e analisi delle parole da parte dell'intelligenza artificiale

In questa pagina puoi ottenere un'analisi dettagliata di una parola o frase, prodotta utilizzando la migliore tecnologia di intelligenza artificiale fino ad oggi:

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  • opzioni di traduzione delle parole
  • esempi di utilizzo (varie frasi con traduzione)
  • etimologia

etching test - traduzione in russo

Etching (plasma); Etching (isotropic)

etching test      
испытание травлением
etching test      
испытание травлением
acid polishing         
  • An anisotropic wet etch on a silicon wafer creates a cavity with a trapezoidal cross-section.  The bottom of the cavity is a {100} plane (see [[Miller indices]]), and the sides are {111} planes.  The blue material is an etch mask, and the green material is silicon.
  • 140px
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  • Etching, simplified animation of etchant action on a copper sheet with mask
  • Simplified illustration of dry etching using positive photoresist during a photolithography process in semiconductor microfabrication. Note: Not to scale.
TECHNIQUE IN MICROFABRICATION
Etching (microfab); Wafer etching; Chemical polishing; Acid polishing
полирование с использованием кислоты (для травления поверхности)

Definizione

ЭПАС
экспериментальный полет "Аполлона" и "Союза" (июль 1975). Советский экипаж - А. А. Леонов и В. Н. Кубасов. Американский экипаж - Т. Стаффорд, Д. Слейтон, В. Бранд. В полете дважды была осуществлена стыковка, проводились совместные научные исследования, технические эксперименты и взаимные переходы экипажей.

Wikipedia

Isotropic etching

Isotropic etching is a method commonly used in semiconductors to remove material from a substrate via a chemical process using an etchant substance. The etchant may be in liquid-, gas- or plasma-phase, although liquid etchants such as buffered hydrofluoric acid (BHF) for silicon dioxide etching are more often used. Unlike anisotropic etching, isotropic etching does not etch in a single direction, but rather etches in multiple directions within the substrate. Any horizontal component of the etch direction may therefore result in undercutting of patterned areas, and significant changes to device characteristics. Isotropic etching may occur unavoidably, or it may be desirable for process reasons.

Traduzione di &#39etching test&#39 in Russo